چین در یکی از محرمانهترین و بلندپروازانهترین پروژههای فناوری تاریخ خود، گامی بزرگ به سوی استقلال در تولید تراشههای پیشرفته هوش مصنوعی برداشته است. طبق گزارشی از خبرگزاری رویترز، پکن موفق شده نمونه اولیهای از دستگاه لیتوگرافی پرتوی فرابنفش شدید (EUV) را توسعه دهد؛ فناوریای که قلب تولید تراشههای نسل جدید محسوب میشود و تاکنون در انحصار غرب، بهویژه شرکت هلندی ASML، قرار داشته است.
این پروژه که از سوی برخی منابع با «پروژه منهتن» آمریکا در دهه ۱۹۴۰ مقایسه شده، بخشی از یک برنامه دولتی چندساله برای کاهش وابستگی چین به زنجیره تأمین نیمههادیهای غربی است؛ زنجیرهای که در سالهای اخیر بهشدت تحت فشار تحریمها و کنترلهای صادراتی آمریکا و متحدانش قرار گرفته است.
فناوری EUV امکان حکاکی الگوهای فوقریز روی ویفرهای سیلیکونی را فراهم میکند؛ قابلیتی که برای تولید تراشههای پیشرفته مورد استفاده در هوش مصنوعی، مراکز داده، گوشیهای هوشمند و سامانههای نظامی حیاتی است. در حال حاضر تنها شرکت ASML قادر به تولید ماشینهای EUV تجاری است؛ دستگاههایی با قیمت هر واحد بیش از ۲۵۰ میلیون دلار که ساخت آنها نیازمند همکاری صدها تأمینکننده تخصصی در سراسر جهان است.
تحریمهای فناوری باعث شده چین به این تجهیزات دسترسی نداشته باشد. همین مسئله EUV را به یکی از بزرگترین موانع پیشرفت چین در حوزه تراشههای پیشرفته تبدیل کرده است.
بر اساس گزارش رویترز، چین برای عبور از این مانع، پروژهای فوقسری را با مشارکت گروهی از مهندسان داخلی و خارجی آغاز کرده است؛ از جمله افرادی که سابقه همکاری با ASML داشتهاند. این تیم موفق شده در اوایل سال ۲۰۲۵ یک نمونه اولیه دستگاه EUV را تکمیل کند.
این دستگاه اکنون در یک مرکز تحقیقاتی با سطح امنیتی بالا در شهر شنژن نگهداری میشود و مراحل آزمایش اولیه را پشت سر میگذارد. هرچند این نمونه هنوز به تولید عملی تراشه منجر نشده، اما توانایی تولید نور EUV را دارد؛ دستاوردی که بهتنهایی یک جهش فنی بزرگ محسوب میشود.
منابع نزدیک به پروژه به رویترز گفتهاند که مقامات چینی از این طرح بهعنوان نسخهای فناورانه از «پروژه منهتن» یاد میکنند؛ پروژهای که در آمریکا با سرمایهگذاری عظیم دولتی و تمرکز نخبگان علمی، به توسعه بمب اتم انجامید.
در مورد چین نیز، دولت نقش محوری در تأمین مالی، سازماندهی و حفاظت اطلاعاتی این پروژه داشته است. هدف نهایی، نه فقط ساخت یک ماشین، بلکه ایجاد یک زنجیره کامل بومی برای تولید تراشههای پیشرفته عنوان شده است.
با وجود پیشرفتهای اخیر، کارشناسان تأکید میکنند که فاصله چین تا تولید صنعتی تراشه با EUV همچنان قابل توجه است. یکی از بزرگترین چالشها، بازتولید سیستمهای اپتیکی فوقدقیق و آینههای خاصی است که در حال حاضر تنها توسط تعداد محدودی از شرکتهای غربی تولید میشوند.
بر اساس ارزیابی منابع صنعتی، مقامات چینی امیدوارند تا سال ۲۰۲۸ بتوانند از این فناوری برای تولید تراشههای کاربردی استفاده کنند؛ هرچند برخی تحلیلگران این زمانبندی را خوشبینانه میدانند و تحقق آن را به سال ۲۰۳۰ یا بعد از آن موکول میکنند.
اگر چین موفق شود این مسیر را بهطور کامل طی کند، پیامدهای آن فراتر از یک دستاورد فنی خواهد بود. چنین موفقیتی میتواند توازن قدرت در صنعت جهانی نیمههادیها را تغییر دهد و اثربخشی محدودیتهای صادراتی غرب را زیر سؤال ببرد.
این تحول بهویژه در حوزه هوش مصنوعی اهمیت بالایی دارد؛ جایی که دسترسی به تراشههای پیشرفته، مستقیماً با قدرت اقتصادی، نظامی و فناورانه کشورها گره خورده است.
پروژه محرمانه EUV چین نشان میدهد که پکن مصمم است حتی در پیچیدهترین و انحصاریترین حوزههای فناوری نیز به خودکفایی برسد. هرچند مسیر پیش رو دشوار و پرهزینه است، اما همین پیشرفتهای اولیه نشان میدهد رقابت جهانی بر سر تراشههای هوش مصنوعی وارد مرحلهای تازه و عمیقتر شده است؛ مرحلهای که میتواند آینده فناوری جهان را بازتعریف کند.
سیسوگ با افتخار فضایی برای اشتراک گذاری دانش شماست. برای ما مقاله بنویسید.